1、HBC转换效率表现
2014-2015年是BSF铝背场电池发展到效率天花板的技术拐点期,当时转换效率22%以上的晶硅电池技术有:IBC电池、HJT电池和PERx(PERL/PERT/PERC)家族电池。结果,在BSF电池生产工艺上,只需增加背面氧化铝镀膜和激光开槽两道工序就完成升级的PERC电池,依靠良好的工艺兼容性和较低的设备投入,迅速成为新一代主流晶硅电池技术。
而同期IBC电池,在HJT电池技术的加持下,成为太阳能电池领域新的创新热点。2014年,受夏普研究成果启发,松下在其HIT(即HJT)电池基础上,结合了IBC电池结构,研发出了转换效率25.6%的HBC电池,刷新了世界纪录。
HBC电池结构
(来源:公开信息)
HBC电池具有最高转换效率的发展潜力,迅速吸引了大批研发机构和企业的研究,成为最热门的技术路线之一。见下表。
HBC电池专利
(来源:普乐科技POPSOLAR®)
2017年,Kaneka将HBC电池世界纪录,刷新到了26.63%。这也是迄今为止晶硅太阳能电池研发效率的最高水平。见下图及下表:
日本Kaneka世界纪录HBC电池
(来源:Kaneka,2017)
HBC电池转换效率世界纪录表
(来源:公开信息,普乐科技POPSOLAR®整理)
HBC电池,即异质结背接触晶硅电池,高转换效率的主要原因:
(1)高Voc。HBC电池采用氢化非晶硅(a-Si:H)作为双面钝化层,在背面形成局部a-Si/c-Si异质结结构,基于高质量的非晶硅钝化,获得高Voc。充分吸收了HJT电池非晶硅钝化技术的优点。
(2)高Jsc。HBC电池采用了IBC电池结构,前表面无遮光损失和减少了电阻损失,从而拥有较高的Jsc。充分吸收了IBC电池结构的优点。
2、HBC电池量产工艺难点
HBC电池代表晶硅电池最高效率水平,然而,HBC电池在继承了IBC和HJT两者优点的同时,也保留了两者各自生产工艺的难点:
设备昂贵,工序长,投资成本高
需要掩模、开槽、掺杂和清洗才能完成制备背面PN区,制程复杂
本征和掺杂非晶硅镀膜工艺,工艺窗口窄,对工艺清洁度要求极高
正负电极都处于背面,电极印刷和电极隔离工艺对设备精度要求高
低温银浆导电性弱,需要跟TCO配合良好,壁垒高供给少
低温电池制程,客户端需要低温组件封装工艺配合
从各晶硅电池工艺制程对比来看,HBC电池工艺是复杂而昂贵的。见下表:
晶硅电池工艺制程对比
(来源:公开信息,普乐科技POPSOLAR®整理)
(1)关键工艺:制备背面P区(掺硼非晶硅)和N区(掺磷非晶硅)
如何用低成本工艺,来制备HBC电池背面PN区,是决定HBC电池是否有产业竞争力的关键一步。按照经典HBC电池制备PN区的工艺,绕不开“掩模-开槽-沉积-刻蚀”等工艺,比如Kaneka的方案,就高达8个工序,涉及5个不同设备,制程复杂而昂贵(见下表)。而主流PERC电池只需一道炉管扩散工艺就完成p-n结的制备。
(来源:公开信息,普乐科技POPSOLAR®整理)
按照目前PECVD、PVD、湿法设备和金属化设备等设备的成熟度,经典HBC电池工艺已经走得通,但生产成本会比较高。HBC电池的规模量产,还需要低成本的工艺方案,特别是低成本的PN区掺杂方案。业内在探索低成本PN区掺杂工艺,并在以下几个方向有了积极的成果:
简化掺杂非晶硅薄膜的工序
降低关键设备PECVD的设备成本
采用更低成本的非晶硅沉积设备
(2)关键设备:非晶硅薄膜沉积设备
非晶硅薄膜沉积设备,主要有板式PECVD、HWCVD和LPCVD设备。见下表:
非晶硅薄膜沉积设备比较
(来源:公开信息,普乐科技POPSOLAR®整理)
LPCVD设备,是随着TOPCon电池工艺发展成熟的新电池设备,目前仅应用在TOPCon和TBC工艺的非晶硅镀膜上。HWCVD是日本松下/三洋选择的方案,优点是沉积非晶硅质量较好,缺陷更少;缺点是镀膜均匀性较差,碎片率较高,电耗偏高。而PECVD,凭借良好的质量和稳定性成为主流非晶硅薄膜沉积设备,特别在制备氢化非晶硅方面。
板式PECVD通过微波或射频波使腔室内的反应气体分子电离,形成的高化学活性等离子体,在基片表面发生化学反应,沉积成膜。管式PECVD在传统晶硅电池中沉积的薄膜厚度均大于100nm,而在HBC电池中板式PECVD 在硅片正反面先后沉积两层非晶硅薄膜用作钝化层,钝化层的厚度需控制在5-10nm,薄膜均匀性、致密度、容错率等直接影响电池片的转换效率,因此板式PECVD设备对真空度、洁净度、设备频率、压力、沉积速率等各项影响镀膜质量的指标,要求比较高,从而导致板式PECVD是HBC电池制程里技术难度最大同时也是最昂贵的设备。见下表:
主流板式PECVD厂商设备对比
(来源:普乐科技POPSOLAR®)
从目前主流厂商实际表现来看,板式PECVD在工艺控制和成本控制方面,还有较大的提升空间。
(3)TCO和低温银浆
TCO透明导电膜
制备TCO透明导电膜,采用PVD或RPD设备。PVD工艺较为成熟,国际领头羊公司的PVD设备产能可达8000片/小时,国产PVD设备产能也达到了8000片/小时,未来有望提升至10000片/小时,可进一步降低TCO成本;RPD设备方面,国产RPD设备每小时产能达到5500片,还在进一步提高。
制备良好的TCO膜,需要合适的薄膜材料。这种薄膜材料的特性要求为:1) 透明性要好;2) 电导率要尽量高;3)要与其接触的硅薄膜的功函数相匹配;4) 在迎光面的TCO膜需要载流子浓度低,以避免红外吸收;5) 靶材料成本要足够低;6) 镀成的薄膜应较为稳定,不容易在气氛中分解。制备HJT电池的TCO膜,一般选用应用广泛但成本较高的ITO膜,而HBC电池,只需背面镀TCO膜,可以选用较低成本的AZO膜。
低温银浆
跟HJT电池工艺一样,经典HBC电池整段工艺都是在200℃左右制备,因此金属化工艺需要使用低温浆料;但由于HBC电池只需单面印刷银浆,银浆成本始终会低于HJT(同理,TBC银浆成本低于TOPCon)。低温银浆为丝网印刷增加了难度和成本,主要在于低温聚合物必须在-20℃下储存,一旦打开聚合物就开始反应,这意味着必须立刻使用浆料;同时低温银浆的导电性能弱于高温银浆,需要提高银的含量来提高导电性。目前低温银浆由于对原料要求高,90%的低温银浆由日本一家供应商供应,成本比常规高温银浆高出不少。目前国产厂商在积极量产低温银浆。
原标题: HBC电池效率及工艺难点