NREL团队在实验室的超级计算机上进行了很多模拟实验,在硅晶片相邻的氧化层添加杂质。具体来讲,他们在薄的隧道二氧化硅层引入杂质;还在硅晶片相邻的氧化铝表面钝化层添加杂质。
这两种情况下添加杂质,被认为是有益的,通过提升电池多数载流子的传输速度,排斥少数载流子,能提高整体效率。
NREL模拟实验从硅晶片相邻的氧化层除去某些原子,用一个不同元素的原子来替换,从而创造出虚拟的"缺陷。例如,当氧原子被氟原子替换,这样就会产生一个缺陷,进而可以促进电子收集。
示意图:缺陷点(红十字部分),有助于从光吸收体收集电子,堵住漏洞,进而抑制载流子复合。
NREL研究表示,确定出正确的“缺陷”才是过程的关键,通过进一步研究将会确定哪一处缺陷将会产生最好的结果。